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          還原型堿性熔劑及清洗方式

          發表時間:2021-06-02

                                                 還原型堿性熔劑及清洗方式

                 氧化型熔鹽清洗又可分為高溫氧化型清洗、中溫氧化型清洗和低溫氧化型清洗三種情況。

                 高溫氧化型清洗的操作溫度為455~538℃,只適合于清洗單氧化皮。所謂單氧化皮是指單純由于熱軋或熱處理所產生的氧化皮。如果是熱軋后繼之以熱處理時,一般則產生兩層結構不同的氧化皮,稱為雙氧化皮。高溫氧化劑清洗劑是在氫氧化鈉中加入氧化劑和催化性添加劑,清洗時間不超過15分鐘,然后將被清洗工件用冷水急冷,經過漂洗后再用硫酸或鹽酸(試材料而定)清洗,最后用硝酸加氫氟酸使其光亮。

                 中溫氧化型清洗的操作溫度為370~455℃,清洗劑是在氫氧化鈉中加入特殊的添加劑,清洗過程和高溫氧化型清洗一樣。這種方法對雙氧化皮的清洗十分有效,而且特別適合于高級合金、鈦合金、特高強鋼和沉淀硬化鋼的清洗。和高溫氧化型一樣,它也需要進行酸洗后處理。

                 低溫氧化型清洗是近幾年才發展起來的技術,其操作溫度為204~218℃。原來發展這種方法是為了清洗鈦及其合金,因為某些鈦合金在高溫或中溫清洗時會造成時效硬化。后來發現這種方法對一些難熔金屬如鉬、鉭、鎢和鈷等的清洗效率極高,并且不需要隨后進行酸洗。但對于其他金屬合金熔鹽清洗后仍離不開酸洗后處理,甚至需要周期性地進行熔鹽清洗和酸洗才能達到徹底除垢的目的。低溫熔鹽清洗液也是由熔融態燒堿和一些特殊添加劑組成。溫度低自然會使熔垢速度降低,但是由于它不會使工件變形,具有吸氫、堿脆傾向小以及熱輻射損失小等優點而成為一種綜合效果最好的方法。

                 氧化型熔鹽清洗不僅能清除氧化皮,而且還能清除表面的硅質玻璃料、石墨、油脂等垢層。

          (2)還原型堿性熔劑

                 還原型熔劑為含2%氰化鈉的燒堿,用于清洗的操作溫度為370~400℃。氰化鈉是一種活性還原劑,它在堿中可將氧化皮還原成金屬或金屬的低價氧化物。這種方法對清洗鐵素體和馬氏體鉻合金表面的雙氧化皮特別有效,也適合于其他耐高溫合金和耐蝕合金的表面清洗。清洗時間視材料和氧化皮的特性不同由數秒到20分鐘不等。和氧化型熔鹽清洗一樣,這種方法也不會腐蝕基體金屬,但對于易吸氫的金屬(如鈦)應特別注意,這時應縮短清洗時間或加入添加劑以減少析氫。清洗以后,也需要進行酸洗后處理。這種方法由于其強還原性不適合清洗表面有硅質玻璃料、石墨和其他有機物的垢層。

          (3)堿性熔劑用于清洗的方式

                  熔鹽清洗方式除上述的包埋清洗外,還可以采用電解熔鹽清洗和噴射熔鹽清洗。

          電解熔鹽清洗的熔劑兼有氧化型熔劑和還愿型熔劑的特點,操作溫度為427~480℃。清洗時用添加劑的熔融燒堿作鹽浴,并施加6伏的直流電。當工件接電源正極時,為氧化型清洗,可以去除含石墨,玻璃料、有機物的氧化皮垢層;當工件接負極時,則為還原型,可進一步去除氧化皮和鐵垢。一般都是先氧化后還原依次進行。此法還適合于清洗焊縫和鋼鐵鑄件,對去除氧化皮和砂模造成的玻璃料非常迅速。

          鹽膜清洗法是將堿性熔劑噴射在灼熱的板材上,利用板材本身的余熱生成一層熔融的鹽進行清洗的一種新工藝。它可以大大節約能耗和提高工效,特別適用于大面積軋制板材的清洗。這就可以排除包埋清洗法對工件尺寸要求的局限。

          對于管材、棒材和絲材則可連續通過熔鹽浴進行連續清洗。這種清洗方式,可以滿足絲材的機械化快速生產對清洗速度的要求。


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